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真空近年来陆续发布了多个型号的twistorr分子泵，该系列把分子泵的典型工作范围从高真空扩展到了真空。近日，针对一些对压缩比要求不高而气体流量很大的应用，真空又发布了谱拓系列分子泵。该系列包含305fsq、305-icq，以及两个带有中间抽气口的型号305sf和305-icsf。305fsq和305sf通过独立的控制器供电和控制，而305-icq和305-icsf具有集成于泵身的控制器，只需要为其提供24v电源即可工作。

---450sccm的氮气流量

305fsq和305sf可以处理很大450sccm的氮气流量，和很大500sccm的氢气/---气流量，在同等抽速和功率的产品中，是要求高气体流量的科研和工业应用的理想选择。而具有集成式控制器的305-icq和305-icsf也可以处理很大380sccm的氮气流量，和很大500sccm的氢气/---气流量，可以应对绝大多数的仪器应用。

改进的转子结构

谱拓系列分子泵拥有的转子结构：比其他305分子泵增加了一级涡轮叶片，并采用了与其他305分子泵不同的牵引级。牵引级是专为---载而设计的，它拥有更宽大的气体通道，解决了其他牵引级结构在高负载长期运行时---集中的问题，可以承受持续的---体流量，并可将前级耐压提高至16mbar。

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半导体产业链ic制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节---的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着---的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产---集成电路的设备，爱发科进口真空泵保养维修服务，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求---。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

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